在线式inline等离子清洗机表面相互作用，等离子体表面活化包括通过使用等离子体气体（例如氧、氢、氮和氨）产生表面化学官能团。

等离子表面清洗机作用：

刻蚀：

等离子体烧蚀包括通过高能电子和离子轰击机械去除表面污染物。

表面污染层（例如切削油、皮肤油、脱模剂）通常由弱C-H键组成。

烧蚀仅影响衬底材料的污染物层和最外层分子层。

氩通常用于表面材料的高烧蚀效率和化学惰性。

表面激活：

等离子体表面活化包括通过使用等离子体气体（例如氧、氢、氮和氨）产生表面化学官能团，这些气体与表面离解并反应。

在聚合物的情况下，表面活化包括用等离子体气体从化学基团置换表面聚合物基团。

等离子体破坏聚合物中的弱表面键，并用高活性的羰基、羧基和羟基取代它们。

这种活化改变了表面的化学活性和特性，例如润湿和粘附，大大提高了粘合强度和永久性。

表面活化：

交联是聚合物分子链间化学键的建立。

等离子体处理惰性气体可用于交联聚合物，并产生更强和更硬的衬底微表面。

在某些情况下，通过等离子体处理交联也可以赋予材料额外的耐磨性或耐化学性。

涂层：

等离子体沉积涉及通过工艺气体聚合在衬底表面形成薄的聚合物涂层。

所沉积的薄涂层可以具有不同的性能或物理特性，取决于所选择的特定气体和工艺参数。

在线式inline等离子清洗所需工艺气体：

空气

污染物去除（化学）

氧化过程

表面活化（润湿和粘附）

污染物去除（化学）

氧化过程

表面活化（润湿和粘附）

蚀刻（有机物）

表面灭菌

注：一个特殊的“氧气服务”真空泵必须与O2工艺气体一起使用，以避免可能造成伤害的风险；

污染物去除（烧蚀）

表面活化（润湿和粘附）

注意：在使用H2工艺气体时要特别小心，以尽量减少可能受伤的风险。HARRIK等离子体用于H2等离子体处理的研究

吸附作用：吸附是气体、液体或溶质积聚在固体表面上的过程，形成与表面弱结合的分子或原子膜。

生物：等离子体处理已被应用于制备表面和用于细胞生物学研究的器件的制造。

生物医学应用：等离子体处理已被广泛应用于组织工程研究中促进细胞培养，并制备用于生物医学应用的表面。

清洗消毒：表面清洗和消毒通常需要去除有机污染物和微生物污染物，并为后续处理准备表面。

接触印刷：接触印刷能够通过使用转移模板来简化表面的图案化，简化图案转移和消除更复杂的光刻技术的使用。

腐蚀与沉积：蚀刻和沉积是通过化学反应或物理手段去除或添加从材料表面或在材料表面上形成的薄膜层的过程。

特色用户文章：我们的用户发表的论文的一个子集，提供了更深入的讨论等离子体处理对其特定材料的影响，如生物材料，光伏/太阳能电池材料，纳米粒子处理，和PDMS表面改性。

特色用户视频：可视化实验（JoVE）杂志的列表，由我们的用户发布，其特点是我们的等离子清洁剂在他们的过程协议。

微流控器件：微流体装置能够在较小的微米尺度上对大型系统进行建模，增加了自动化和便携性的潜力，并减少了实验测量时间和成本。

使用刚性聚合物的微流体器件：除了PDMS之外，微流控器件也由其他热固性或热塑性聚合物制成，以利用由更刚性聚合物提供的不同材料特性。

纳米纤维：纳米纤维是直径小于100纳米的纤维。它们可以被组装成纤维网状物或膜，并有一系列应用，包括用作组织工程支架和过滤应用。

纳米颗粒：纳米粒子是纳米尺寸的颗粒，表现出不同于其体积当量的材料性质。

纳米线：纳米线具有纳米尺度的横向尺寸，长宽宽比为1000或更大。纳米线可以表现出不同于它们的体积当量的光学、电学和机械性能。

自组装：自组装是分子通过分子间或分子内键合在表面上的有序排列，很少或没有外力的辅助作用。

传感器：传感器已经通过接触印刷、微电子和自组装处理技术制造用于生物和化学传感应用。

太阳能/光伏电池：太阳能电池或光伏电池通常由多层无机或有机半导体膜制成。纳米级的清洁度和表面化学通常需要优化的器件性能。

表面粘附：表面粘附和表面的机械相互作用很大程度上受到两个表面上分子间的摩擦力和静电势的影响。