新闻资讯
2023-08-03
等离子去胶机在晶圆制造工艺中的应用
ICP等离子去胶机依托晟鼎多年的光刻去胶的经验积累,采用高密度、低损伤等离子源设计,同时配备晟鼎成熟的远程ICP技术,达到高水平的去胶速率,并实现去胶损伤抑制;采用独立腔室结构设计,实现均匀的流场分布,去胶均匀性表现优异。
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  • 真空等离子清洗机的原理是什么呢
    真空等离子清洗机产生等离子体的能量,除了与气体本身的特性有关,与等离子体产生的条件或者说环境有关系,包括维持的真空度、施加功率、激发频率、电极结构、气体种类等。
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    2023-08-04
  • 等离子去胶机在晶圆制造工艺中的应用
    ICP等离子去胶机依托晟鼎多年的光刻去胶的经验积累,采用高密度、低损伤等离子源设计,同时配备晟鼎成熟的远程ICP技术,达到高水平的去胶速率,并实现去胶损伤抑制;采用独立腔室结构设计,实现均匀的流场分布,去胶均匀性表现优异。
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    2023-08-03
  • 等离子清洗机的概念是什么呢?
    等离子清洗机(plasma cleaner),利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、自由基、光子以及其他中性粒子组成。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、刻蚀、涂覆等目的。
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    2023-07-29
  • 微波等离子 l SPV-100MWR微波等离子清洗机产品介绍
    SPV-100MWR是一款半导体专用低压微波等离子清洗系统,采用自主研制出国内首台半导体微波发生器技术,可以提供快速的无损伤的等离子清洗效果。
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    2023-07-25
  • 达因特等离子清洗机优势是什么呢
    干式清洗,无需化学溶剂,绿色环保;可广泛应用于3C、显示、半导体、新能源等行业;温度低,避免热损伤;
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    2023-07-17
  • 等离子清洗机简介
    等离子清洗机是一种高科技的干式表面处理设备,通过高压电源电离气体产生等离子体,等离子体直接作用在产品表面达到活化、清洗、去胶、刻蚀的作用,提升表面润湿性能及表面附着力。
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    2023-07-17
  • 会议邀请 l 达因特诚邀您莅临第十七届中国半导体行业协会半导体分立器件年会
    论坛旨在为第三代半导体产业界、学术界搭建互动交流、合作共赢的平台。届时,达因特在论坛会设立展位,展示达因特的半导体晶圆段与封测段工艺的产品和解决方案
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    2023-07-17
  • 等离子清洗在光伏石墨舟上的运用
    石墨舟干法等离子清洗可用于去除石墨舟表面的氮化硅镀层,提高硅片的转化效率和生产良率,为光伏行业带来了重要的创新和进步。
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    2023-07-12
  • 达因特小讲堂 l 等离子清洁在VR/AR行业上的应用
    等离子清洗机有效清除上游工序残留表面污垢颗粒;清洗柔性OLED与CG表面有机物,改善水滴角,降低GDS发生,减少异物使产品的信赖性能更优;
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    2023-07-03

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